[传感技术]新思携三星在低功耗工艺为先进节点5G/6G SoC提供更佳能效和质量
加州山景城2022年8月11日 /美通社/——新思科技（纳斯达克股票代码：SNPS）近日宣布推出射频（RF）设计参考流程和配套的设计解决方案套件（DSK），以加快三星电子（以下简称为"三星"）的8nm射频低功耗FinFET工艺的设计并提高产能，从而帮助双方客户加速开发用于5G/6G应用中的射频设计。8nm射频设计参考流程采用了新思科技和Ansys的无缝整合的解决方案，助力下一代射频设计提高完成质量，缩短完成时间，降低实现成本。 三星电子晶圆代工事业部设计团队副总裁Sangyun Kim表示："三星新的射频解决方案，
[传感技术]佳能发售半导体光刻机解决方案平台“Lithography Plus”
佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus１”服务（以下简称“Lithography Plus”），该系统汇聚佳能在半导体制造领域超过50年的技术积淀，以包括曝光工艺在内的海量半导体制造数据为支持，在提升设备维护运转率的同时，能够实现半导体制造工艺的优化。本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202209/437977.htm?佳能陆续推出了具有高处理性能的KrF光刻机和支持多种设备的i线光刻机等一系列产品，多年来一直积极地为购置佳能光刻机的客户提供技术支持。“Lithography Plus”通过综合运用技术
[传感技术]佳能“佳直播”携手淘宝直播联合发布《电商直播高画质开播指南》
2022年9月3日，佳能1“佳直播”高清直播解决方案（以下简称“佳直播”）联合电商直播平台——淘宝直播在北京举办的中国国际服务贸易交易会上，共同推出《电商直播高画质开播指南》（以下简称《电商直播指南》），旨在以标准化和低成本学习的前提下帮助用户提升直播画质，提供直播开播标准化解决方案，推动主播开播和观众观看体验不断升级。在直播常态化背景下，直播已经成为企业与用户之间双向沟通的重要桥梁。持续增长的市场需求与不断进步的技术都在推动直播迈向“品质直播”，《电商直播指南》以产品技术标准化和应
[传感技术]21 年来首次，佳能将斥资约 24.55 亿元在日本建造芯片制造设备工厂
IT之家 10 月 4 日消息，据日经新闻报道，佳能将在日本东部建造一座新的半导体设备工厂。IT之家了解到，新工厂将建在枥木县，将于 2025 年春季开始运营。投资总额将超过 500 亿日元（约 24.55 亿元人民币），包括建筑成本和生产设备的安装，该公司的目标是将其目前的产能提高一倍。佳能计划提高光刻设备的产量，这是在半导体中蚀刻电路的关键过程的一部分。该公司还将考虑生产下一代系统，能够以低成本制造最先进的精细电路。佳能目前在日本的两家工厂生产类似的设备，该设备用于生产汽车控
[传感技术]佳能将斥资约24.55亿元在日本建造芯片制造设备工厂
IT之家 10 月 4 日消息，日经新闻报道，佳能将在日本东部建造一座新的半导体设备工厂。IT之家了解到，新工厂将建在枥木县，将于 2025 年春季开始运营。投资总额将超过 500 亿日元（约 24.55 亿元人民币），包括建筑成本和生产设备的安装，该公司的目标是将其目前的产能提高一倍。 佳能计划提高光刻设备的产量，这是在半导体中蚀刻电路的关键过程的一部分。该公司还将考虑生产下一代系统，能够以低成本制造最先进的精细电路。 佳能目前在日本的两家工厂生产类似的设备，该设备用于生产汽
[传感技术]21年来首次 佳能将投资500亿日元扩建光刻机产能
目前佳能在日本的两家工厂生产相关设备，可用于汽车控制系统等应用的芯片制造。新工厂将建在现有工厂基础上，这是佳能21年来建造的第一座光刻设备新工厂。
[传感技术]佳能21年来首次新建光刻机工厂，欲将产能翻倍
近日，日本佳能公司表示，将投资超500亿日元（约合24.6亿元人民币），在日本栃木县宇都宫市新建半导体设备工厂，占地面积约7万平方米，主要增产光刻设备，建成后预计产能将提高2倍。新工厂计划于2023年开工，2025年春季投入运行，这也是佳能21年来首次扩产半导体光刻机设备。据悉，佳能目前在宇都宫事务所和阿见事务所等2处工厂内生产半导体光刻设备，主要用于制造汽车控制等的半导体产品。市调组织SEMI的数据显示，2022年第二季度全球半导体设备市场出货264.3亿美元，同比增长6%。为了应对需求的不断增长，佳能一直在
[传感技术]佳能将斥资约24.55亿元在日本建造芯片制造设备工厂
? ? ? ?IT之家 10 月 4 日消息，日经新闻报道，佳能将在日本东部建造一座新的半导体设备工厂。? ? ? ?IT之家了解到，新工厂将建在枥木县，将于 2025 年春季开始运营。投资总额将超过 500 亿日元(约 24.55 亿元人民币)，包括建筑成本和生产设备的安装，该公司的目标是将其目前的产能提高一倍。 佳能计划提高光刻设备的产量，这是在半导体中蚀刻电路的关键过程的一部分。该公司还将考虑生产下一代系统，能够以低成本制造最先进的精细电路。 佳能目前在日本的两家工厂生产类似的设备
[传感技术]佳能集团发布2022年第三季度财报
2022年10月26日，佳能集团发布2022年第三季度财报。据财报显示，2022年第三季度佳能集团营业额同比增长19.5%，为9,960.90亿日元。本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202210/439657.htm打印业务领域，办公用数码复合机市场需求正在逐步恢复，服务及耗材同比平稳上涨、销售台数则有大幅上升。激光及喷墨打印机方面，销售台数同比实现大幅增长。面向生产型数码印刷市场的高速单张纸彩色喷墨印刷系统varioPRINT iX系列受到广泛好评，服务收入不断增长。综上，这一领域本季度营业额对比去年同期增长20.1%，为5,
[传感技术]ASML光刻机有多牛
众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备。而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7－180nm。还有UV（i－line）光刻机，主要用于0．35um工艺。而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45－7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等。目前全球的光刻机厂商，真不多，特别是用于芯片制造的，也就是前道光刻机，全球也就四家，分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子。其中ASML是最牛的， 特别是EUV
[传感技术]佳能发布EOS R6 Mark II 像素增至24MP 连拍40FPS
在11月2日，佳能发布新款全画幅无反相机EOS R6 Mark II，它使用了新开发的24MP的全画幅CMOS图像传感器，电子快门连拍速度达到40FPS，最高可录制4K60P视频。EOS R6 Mark II在机身方面没有太大变化，大小为138.4×98.4×88.4毫米，使用双SD卡槽，空机身重量为588g，沿用了LP-E6NH电池，EVF下续航为450张（节电）/320张（流畅），屏幕下续航为760张（节电）/580张（流畅），含单卡和电池下重量下增加了670g。依然具备机身防抖功能，与镜头组合下最高可以实现8档防抖。而在内部，EOS R6 Mark II获得了全面提升，它搭载了24
[传感技术]佳能发布多款喷墨与激光打印机新品，高颜值小机身却有大能量
11月6日，佳能发布了5款PIXMA G系列新款喷墨打印产品与8款激光打印产品新品，前者应用于家庭场景，可在学习与工作中实用，而后者则可用于企业办公之中。其中5款PIXMA G系列新款喷墨打印机，分别是G2870、G3871、G3872、G3870、G1831等加墨式高容量一体机，主打的优势是超性能、超省钱以及超智联以及高颜值与小巧机身，外观一共提供了红、黑、白三款颜色款式，小巧的机身也可以在家中随处摆放。在经济模式下打印，新款的PIXMA G系列喷墨打印机可以打印黑白量7600页，彩色可以打印8100页，并且配备了1.25英寸LCD屏。不过
[传感技术]佳能扩产光刻机，图啥？
本文来自微信公众号：有数DataVision （ID：ycsypl），作者：严张攀/曾思怡，原文标题：《佳能：我来给中国提供光刻机》，题图来自：视觉中国作为日本老牌电子巨头，佳能相机做得好，但光刻机做得也不差。就在今年年初，佳能关闭了运营32年的珠海工厂。尽管巅峰时期，这里曾一度占了佳能全球卡片数码相机的一半产量。到了下半年，不断收缩中的佳能，却大手一挥表示要投资500亿日元（约25亿元人民币），新建半导体设备工厂。以2021年数据来看，佳能光刻机均价约为：7857万元。更具体来说，去年总计销售140台光刻机的佳能
[传感技术]佳能推出EOS Webcam Utility Pro 每月5美元 支持全高清60P直播
日前，佳能推出了EOS Webcam Utility Pro相机摄像头软件，它不仅支持全高清60P视频直播，而且加入了更多功能，不过实现上述需要付费订阅。早在2020年底，佳能就推出EOS Webcam Utility软件，通过USB线把佳能相机变成电脑摄像头，方便用户进行视频会议，支持macOS和Windows系统。不过EOS Webcam Utility只是解决了能不能用的问题，好用需要EOS Webcam Utility Pro来实现。EOS Webcam Utility Pro是一款免费软件，支持EOS R3、EOS R5可换镜头相机（包含单反和无反）以及PowerShot G5X Mark II、PowerShot G7X Mark III和
[传感技术]多家光刻大厂扩产进行时：ASML公开年产690台扩充计划
近日，光刻龙头ASML在投资者日会议上表露其将扩张产能，至2026年该公司EUV年产量要达90台，并将启动120亿欧元的股票回购计划。在投资者日会议上，ASML向其位于荷兰费尔德霍芬总部以及在线参加会议的投资者和主要利益相关者披露了ASML对需求前景的最新看法。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink和ASML执行副总裁兼首席财务官Roger Dassen讨论ASML的长期战略、大趋势、需求、产能计划和商业模式，以支持公司的未来增长。在未来预期上，ASML上调了业绩预期，预计2025年的营收为300亿到400亿欧元。ASML认为
[传感技术]佳能或于2023年一季度发布EOS R50新机 外观设计类似EOS M系列
佳能在今年上半年，正式发布了EOS R系统的EOS R7和EOS R10两款APS-C无反相机，这或许意味着今后佳能将在EOS R系统上全面发力，完成全面替代单反产品的布局，那么EOS M系列的微单产品后续会如何安排呢？之前推出的EOS R7和EOS R10应该主要是接替单反系统中的EOS 7D Mark II和EOS 90D，不过EOS M系列应该也会有EOS R系统的替代品，最近外媒透露佳能有可能会在2023年一季度的CP+展会上正式推出全新的EOS R50无反相机，用以取代EOS M50系列，同时机身外型上会延续EOS M系列的设计，主打轻便特性，主要的区别就是卡口更换为
[传感技术]佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂
我们还特别拍了个“光学大厂”的图集，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。9xHesmc9xHesmc像佳能这种公司的业务线相对庞杂，而且很多产品都还很知名，比如说相机、摄影镜头、打印机这些消费电子产品。实际上，和芯片与显示面板制造相关的光刻机、FPD曝光机、OLED蒸镀机等一众光学设备产品，这次并未出现在佳能的展台上，毕竟那都是大件。佳能就这些技术展示了一些下游合作伙伴的产品
[传感技术]佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品
佳能将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产品通过0.8μm（微米※2）的高解像力和拼接曝光技术，使100×100mm的超大视场曝光成为可能，进一步推动3D封装技术的发展。本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202212/441349.htm为了提高半导体芯片的性能，不仅在半导体制造的前道工艺中实现电路的微细化十分重要，在后道工艺的高密度封装也备受关注，而实现高密度的先进封装则对精细布线提出了更高要求。同时，近年来半导体光刻机得到广泛
[传感技术]佳倍热爱 无惧挑战 EOS青年影像学院沈阳站开讲
为了激发年轻摄影爱好者及学生的摄影热情，挖掘并培养有潜力的年轻摄影师，佳能在2022年面向学生和年轻摄影爱好者开展EOS青年影像学院校园巡展活动。回顾2022年的脚步，EOS青年影像学院已经分别在重庆、西安、长沙、广州、福州以及杭州举办了多场巡展活动，每一场的活动上不仅有摄影大咖传授独家拍摄技巧，更有丰富的沉浸式体验拍摄。通过这样的活动形式，佳能为大学生以及摄影爱好者创造了面对面交流的机会。图1 活动现场学员及讲师大合影12月7日，佳能EOS青年影像学院校园巡展沈阳站在沈阳丽都索菲特酒
[传感技术]高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机
12月7日，日本佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。据了解，在半导体芯片的制造工艺中，光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。佳能介绍，新款i线步进式光刻机通过0.8μm的高解像力和拼接曝光技术，使100 x 100mm的超大视场曝光成为可能，从而实现2.
